Metal Oxide Thin Films Grafted on Silica Gel Surfaces: Recent Advances on the Analytical Application of these Materials

AUTOR(ES)

Gushikem, Yoshitaka, Rosatto, Simone S.

FONTE

Journal of the Brazilian Chemical Society

DATA DE PUBLICAÇÃO

2001-12

RESUMO

Nos óxidos metálicos MxOy altamente dispersos como monocamadas finas sobre a superfície porosa de SiO2 (denominados como SiO2/MxOy), a ligação covalente Si-O-M formada sobre a superfície SiO2 restringe a mobilidade dos óxidos ancorados resultando em óxidos metálicos coordenativamente insaturados (LAS) em adição aos sítios ácidos de Brfinsted (BAS). Os BAS originam-se dos grupos MOH e SiOH, sendo o último devido aos grupos silanóis não reagidos. Como os óxidos ancorados estão fortemente imobilizados sobre a superficie, eles são também muito estáveis termicamente. O caráter anfotérico de muitos dos óxidos ancorados, permite a imobilização de várias espécies químicas, ácidos ou bases, resultando em uma ampla aplicação destes materiais com superfícies modificadas. Neste trabalho, muitas das recentes aplicações dos óxidos metálicos ancorados à superfície da sílica são descritas, tais como adsorventes seletivos, em processos de pré-concentração, como materiais de recheio para uso em HPLC, suporte para imobilização de enzimas, eletrodos amperométricos, sensores e biossensores.

Documentos Relacionados

• Nanocrystalline titanium oxide thin films prepared by sol-gel process
• Characterization of thiol-functionalised silica films deposited on electrode surfaces
• Hot-filament metal oxide deposition (HFMOD): a novel method for depositing thin films of metallic oxides
• Evaluation of bulk and surfaces absorption edge energy of sol-gel-dip-coating SnO2 thin films
• Synthesis of Titania-Silica Materials by Sol-Gel