Eletrocromismo em filmes finos de oxido de niquel
AUTOR(ES)
Irval Cardoso de Faria
DATA DE PUBLICAÇÃO
1997
RESUMO
Neste trabalho foram estudados filmes finos de óxido de níquel depositados por sputtering reativo, variando-se alguns parâmetros durante a deposição. A microestrutura, a composição e a morfologia dos filmes foram analisadas por Difração de Raios-X, Retroespalhamento de Rutherford e Microscopia de Fôrça Atômica, respectivamente. Todos os filmes apresentaram a fase cúbica do NiO, com parâmetros de rede, tamanhos de grão, planos preferenciais de crescimento, rugosidade e porosidade que dependem dos parâmetros de deposição. A relação de concentrações metal ligante ([Ni]/[O]) indicou a presença de vacâncias metálicas na rede cristalina. Além disto, as análises indicaram uma concentração importante de hidrogênio nos filmes, que comparece como um dopante não-intencional. As características ópticas dos filmes as grown foram estudadas por espectrofotometria, e são também apresentadas e discutidas. O comportamento das amostras frente à intercalação eletroquímica foi estudado em meio aquoso básico, acompanhando-se as variações de transmitância (efeito eletrocrômico) e as tensões mecânicas envolvidas no processo de inserção/de-inserção reversível de íons/elétrons na rede cristalina. Um modelo para o eletrocromismo em óxido de níquel é proposto. Finalmente, a técnica de eletrogravimetria foi utilizada para esclarecer o mecanismo da reação de intercalação
ASSUNTO(S)
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http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000114140Documentos Relacionados
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