Effect of PECVD deposition parameters on the DLC/PLC composition of a-C:H thin films

AUTOR(ES)

Oliveira, Éder C., Cruz, Sandra A., Aguiar, Paulo H. L.

FONTE

J. Braz. Chem. Soc.

DATA DE PUBLICAÇÃO

11/09/2012

RESUMO

Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) têm sido depositados na superfície de materiais para melhorar propriedades mecânicas, ópticas e químicas. Nesse estudo, foi empregado o sistema de deposição química assistida por plasma (PECVD) para sintetizar filmes de a-C:H com fases DLC (tipo diamante) e PLC (tipo polimérico). As pressões parciais de acetileno em argônio foram variadas e as estruturas dos produtos analisadas pela técnica de espectroscopia de reflexão-absorção no infravermelho (IRRAS) e Raman. Além disso, a morfologia e as espessuras dos filmes foram determinadas por microscopia de força atômica (AFM) e perfilometria, respectivamente.

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