Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

AUTOR(ES)

Jose Angelo Rodrigues Gregolin

DATA DE PUBLICAÇÃO

1979

RESUMO

Este trabalho apresenta a pesquisa realizada durante 1977 a 1979, do processo de deposição de Silício policristalino a partir de Triclorosilano e Hidrogênio. Este processo se constitui numa das etapas fundamentais da moderna tecnologia de produção do Silício com pureza de grau eletrônico. A análise experimental do processo envolveu o projeto e construção dos equipamentos para permitir a deposição de Si e simultaneamente investigar a influência de diversos parâmetros, como a temperatura e composição dos gases sobre o processo de deposição. Pode-se salientar os seguintes componentes do sistema experimental utilizado...Observação: O resumo, na integra, podera ser visualizado no texto completo da tese digital

ASSUNTO(S)

silicio - propriedades eletricas silicio - reatividade

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