Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio
AUTOR(ES)
Elnatan Chagas Ferreira
DATA DE PUBLICAÇÃO
1984
RESUMO
Not informed
ASSUNTO(S)
semicondutores de oxido metalico silicio - tecnologia materiais
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=000047112Documentos Relacionados
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