ESTUDO DA TRANSIÇÃO CRISTALOGRÁFICA EM FILME FINO DE VO2 POR DIFRAÇÃO DE RAIOS-X / STUDY OF THE CRYSTALLOGRAPHYC TRANSITION IN THIN FILMS OF VO2 BY X-RAY DIFFRACTION.

AUTOR(ES)
FONTE

IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia

DATA DE PUBLICAÇÃO

28/03/2011

RESUMO

Características estruturais e morfológicas de filmes de óxido de vanádio depositados pela técnica de magnetron sputtering reativo foram determinadas por difração de RX. Os filmes estudados, isentos de qualquer contaminação com outras estequiometrias, são constituídos de grãos relativamente grandes e estão fortemente texturizados com a direção <011 >praticamente perpendicular ao substrato. Em uma amostra foram extraídos difratogramas em função da temperatura para acompanhar a transição cristalográfica que o VO2 sofre próximo a temperatura de 68C. Os resultados obtidos para as diferentes temperaturas foram analizados com o auxílio de um software baseado no método Rietveld de refinamento de estruturas. Para temperaturas abaixo da temperatura crítica para a transição, o material apresentou-se na fase monoclínica M1 com os dímeros de vanádio alinhados paralelos ao substrato. Na faixa de temperaturas que compreende a transição, há uma coexistência das fases M1 e R separadas por uma monoclínica M2. Esta coexistência ocorre dentro de grãos individuais da amostra. Ao contrário das fases M1 e R, que normalmente são identificadas na transição do VO2, esta é a primeira vez em que a fase M2 é observada em filmes finos policristalinos depositados por sputtering com textura <011 >. A comparação entre as larguras dos picos da fase M1 (temperatura ambiente) e da fase rutila R (95C) mostra que a fase M1 está sujeita a estresses não homogêneos. Embora na média esse estresse seja tênsil, uma parte apreciável dos cristais se mostra sob estresse compressivo, parte esta que explica o surgimento da fase M2.

ASSUNTO(S)

vo2 thin films x-ray diffraction difração de raios-x vo2 filmes finos fisica

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