Determinação de parametros cineticos e caracterização eletrica de filmes de SiO2 produzidos por oxidação termica pirogenica do Si
AUTOR(ES)
Jose Camargo da Costa
DATA DE PUBLICAÇÃO
1982
RESUMO
Not informed
ASSUNTO(S)
oxidação silicio - propriedades eletricas semicondutores
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=000052914Documentos Relacionados
- Síntese e caracterização de nanocompósitos Ni: SiO2 processados na forma de filmes finos
- Filmes finos de SiO2 nanoporosos produzidos por irradiação iônica : dependência com a energia de irradiação e propriedades refletoras
- Transições de fase e seus efeitos no comportamento da difusividade térmica de alguns polimorfos do SiO2
- Obtenção de filmes finos isolantes de SiO2 e Si3N4 por deposição quimica a fase vapor auxiliada por plasma remoto
- Caracterização elétrica e físico-química de estruturas dielétrico/4H-SiC obtidas por oxidação térmica