Desenvolvimento de filme fino de a-Si:H por pulverização catódica para aplicações fotovoltaicas / Desenvolvimento de filme fino de a-Si:H por pulverização catódica para aplicações fotovoltaicas
AUTOR(ES)
Romeu Jesus Santana
FONTE
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia
DATA DE PUBLICAÇÃO
30/05/2011
RESUMO
Filmes finos de silício amorfo hidrogenado (a-Si:H) foram desenvolvidos para aplicações fotovoltaicas. Esses filmes são atualmente muito utilizados em células solares HSJ como camada absorvedora devido às suas boas propriedades ópticas e elétricas, associado a um band gap razoavelmente baixo e um reduzido custo de produção. Os filmes foram sintetizados por pulverização catódica (sputtering d.c.). As técnicas de caracterização utilizadas foram perfilômetria, Raman, IR e UV-vis para sua caracterização estrutural, química e óptica, respectivamente. Para a avaliação dos parâmetros físicos, adotaram-se como variáveis dependentes o coeficiente da absorção óptica, o teor de fase amorfa e a concentração de hidrogênio no material formado. As variáveis independentes utilizadas neste estudo são: pressão e temperatura de deposição. Os filmes finos amorfos foram auferidos com concentrações de hidrogênio superiores a 10% e band gap na faixa de 1,9eV.
ASSUNTO(S)
- - engenharia de materiais e metalurgica
