APPLICATION OF X RAY FLUORESCENCE (WDXRF): THICKNESS AND CHEMICAL COMPOSITION DETERMINATION OF THIN FILMS / "Aplicação da fluorescência de raios X (WDXRF): Determinação da espessura e composição química de filmes finos"
AUTOR(ES)
Valdirene de Olivieira Scapin
DATA DE PUBLICAÇÃO
2004
RESUMO
Neste trabalho é descrito um procedimento para a determinação quantitativa da espessura e composição química de filmes finos, por fluorescência de raios X por dispersão de comprimento de onda (WDXRFS), utilizando-se o método de Parâmetros Fundamentais (FP). Este método foi validado dentro dos padrões de garantia de qualidade e aplicado as amostras de Al, Cr, TiO2, Ni, ZrO2 (monocamada) e Ni/Cr (duplacamada) sobre vidro; Ni sobre aço inoxidável e zinco metálico e TiO2 sobre ferro metálico (monocamada), as quais foram preparadas por deposição física de vapor (PVD). Os resultados das espessuras foram comparados com os métodos de Absorção (FRX-A) e Retroespalhamento de Rutherford (RBS), demonstrando a eficiência do método de parâmetros fundamentais. As características estruturais das amostras foram analisadas por difração de raios X (DRX) e mostraram que os mesmos não influenciam nas determinações das espessuras.
ASSUNTO(S)
difração de raios x x ray diffraction composição química thickness espessura wdxrf chemical composition wdxrf x ray fluorescence fluorescência de raios x filmes finos
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